光刻材料

陶氏電子材料事業群在光刻材料領域一直是領軍人物,在提供尖端的光刻創新技術和工藝方面擁有三十多年的經驗。陶氏將這種專業素養引入LED市場,推出一系列的正型g-Line和i-Line 光阻和相關的輔助産品。這些材料特別適宜于用于LED製造的成像工藝步驟,包括圖案化藍寶石基材(PSS)、正型和負型光刻工藝步驟等。

陶氏的LED光阻能够滿足所有的關鍵性能指標:

  • 解析度高
  • 優异的耐蝕刻性能
  • 聚焦深度寬
  • 熱穩定性

我們的光刻材料采用最嚴格的品質標準進行製造,滿足半導體和化合物半導體製造工藝的各種苛刻要求。

1 μm的特徵尺寸,3 μm的膜厚, i-Line波長

0.350 μm 的特徵尺寸,12,000Å的膜厚,i-Line波長